ェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策 5月14日（金）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ
本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町：
https://cmcre.com/）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、
このたび「ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策」と題するセミナーを、 講師に河合 晃 氏 長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻
電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授 兼 アドヒージョン（株）（研究成果活用企業（大学ベンチャー））代表取締役博士（工学））をお迎えし、
2021年5月14日（金）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：55,000円（税込）、
弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、 かつ、 高周波プリント基板や LSI および液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。 また、
ウェットエッチングは、 量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、 かつ、 エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。 しかし、
ウェットエッチングには、 濡れ性制御、 反応性コントロール、 界面密着制御、 マスク耐性などの様々な要因が関わっており、 高精度化のためには、
それぞれを最適化することが必要です。 近年では、 ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。 本セミナーでは、
ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、 エッチングの高精度化、 トラブル対策についても解説します。
日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。
1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策
開催日時：2021年5月14日（金）10:30～16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：河合 晃 氏
長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授
兼 アドヒージョン（株）（研究成果活用企業（大学ベンチャー））代表取締役博士（工学）
【セミナーで得られる知識】
ウェットエッチングの基礎、 コントロール要因、 形状制御技術
※本セミナーは、 当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 推奨環境は当該ツールをご参照ください。 後日、
視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/74356/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
3）セミナープログラムの紹介
1. ウェットエッチングの基礎
・加工技術としての位置づけ（設計値とシフト量）
・基本プロセスフロー（前処理、 表面洗浄、 エッチング液、 マスク除去、 洗浄）
・プロセス支配要因（濡れ、 律速、 反応速度、 エッチング機構）
・等方性エッチング（アンダーカット）
・結晶異方性エッチング（結晶方位依存性）
・表面エネルギー理論による界面浸透解析（拡張エネルギーS、 円モデル）
・処理装置（液循環、 ディップ、 シャワー、 スピンエッチ、
フィルタリング）
2. アンダーカット形状コントロール
・支配要因（界面濡れ性、 応力集中、 液循環、 マスク耐性）
・形状コントロール（エッチングラインの高精度化）
・高精度形状計測（断面 SEM、 定在波法、 光干渉法、 X 線 CT）
3. プロセスの基礎と最適化要因
3.1 被加工表面の最適化（表面被膜、 汚染、 欠陥の影響）
・被加工膜の材質依存性（Cu、 Al、 Si、 ガラス、 高分子膜）
・表面汚染（大気中放置、 自然酸化）
・表面前処理（疎水化および親水化）
3.2 エッチング液
・エッチング液の選定（等方性/異方性）
・エッチングレート（反応律速）
・エッチング液の劣化（物質移動律速）
3.3 エッチングマスク
・マスク剤の選定（レジスト膜、 無機膜）
・マスク剤の最適化（マスク形成と高精度化）
・マスクの形状劣化（熱だれ、 転写特性）
・マスク内の応力分布と付着強度（応力集中と緩和理論）
・エッチング液の浸透（CLSM 解析）
4. トラブル要因と解決方法（最短の解決のために）
・マスクパターンの剥離（付着エネルギー Wa 及び剥離要因）
・エッチング液の濡れ不良（ピンニング不良）
・エッチング開始点の遅れ（コンタクトラインの VF 変形）
・ホールパターンの気泡詰まり（界面活性剤）
・エッチング表面の荒れ（気泡、 異物）
・金属汚染（RCA 洗浄）
・液中酸化（溶存酸素）
・再付着防止（DLVO 理論、 ゼータ電位）
・乾燥痕（マランゴニー対流、 IPA 蒸気乾燥）
5. 質疑応答
（日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます）
4）講師紹介
三菱電機（株） ULSI研究所にて10年間勤務し、 電子デバイス開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、
半導体デバイスの高精度な表面処理技術開発に従事した。
その後、 長岡技術科学大学にて勤務し、 機能性薄膜、 表面界面制御、 ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施している。
各種論文査読委員、 NEDO技術委員、 国および公的プロジェクト審査員などを歴任。
大学ベンチャー企業として、 アドヒージョン（株） 代表取締役 兼務。
著書33件、 受賞多数、 原著論文166報、 国際学会124件、 特許多数、 講演会 200回以上、 日本接着学会評議員、 電気学会、 応用物理学会会員、
産学連携・技術コンサルティング実績 150社以上
5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、 当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 推奨環境は当該ツールをご参照ください。 後日、
視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
初心者の方にも分かりやすく解説します。
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/74356/
6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
（1）自動車の軽量化に貢献する異種材料の接着技術
開催日時：2021年4月22日（木）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/69821/
（2）リチウムイオン蓄電池の残量と劣化状態推定アルゴリズム解説
開催日時：2021年4月22日（木）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/67916/
（3）治験薬GMP入門：日米欧三極対応のポイントとGDP対策
開催日時：2021年4月23日（金）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/75243/
（4）中国の輸出管理法を見据えた、 日本企業が採るべきレアメタル戦略
開催日時：2021年4月23日（金）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/70690/
（5）高周波対応のプリント基板／実装技術の基礎と要求される材料・プロセス
開催日時：2021年4月23日（金）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/71017/
（6）量子コンピュータと量子暗号の基礎と応用
開催日時：2021年4月26日（月）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/67654/
（7）培養食肉の最新技術動向と展望
開催日時：2021年4月26日（月）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/75035/
（8）先進半導体パッケージ形成プロセスの基礎と今後の開発動向及び市場動向
開催日時：2021年4月26日（月）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/75883/
（9）実務に成果をもたらす「人工知能」導入＆活用方法
開催日時：2021年4月27日（火）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/71107/
（10）データ駆動型化学の展開 ～ インフォマティクスの基礎と材料設計への応用 ～
開催日時：2021年4月27日（火）12：30～16：30
https://cmcre.com/archives/75464/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/seminar/semi_cmcr_f/
7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上