LD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用 5月20日（金）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ
本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町：
https://cmcre.com/）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、
このたび「ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用」と題するセミナーを、 講師に浦岡 行治 氏 奈良先端科学技術大学院大学
物質創成科学研究科 教授）をお迎えし、 2022年5月20日（金）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、
一般：55,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。 AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、 高機能な薄膜を形成することは、
非常に重要です。 薄膜形成技術については、 古くからいろいろな手法が開発され、 LSI、 ディスプレイ、
太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきました。
本セミナーでは、 近年、 特に注目を浴びているALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術について、 その基礎と応用について概説します。 特に、
堆積の原理や材料について詳しく紹介します。 また、 LSI、 薄膜トランジスタ、 パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介します。
1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用
開催日時：2022年5月20日（金）10:30～16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：浦岡 行治 氏 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
【セミナーで得られる知識】
・ 半導体プロセス技術全般（特にALD技術）
・ 半導体デバイス技術（特にMOSデバイス）
・ 半導体材料の評価技術（電気的/化学的/物理的）
※本セミナーは、 当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 推奨環境は当該ツールをご参照ください。 後日、
視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/94320/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
3）セミナープログラムの紹介
1. 薄膜形成技術の基礎
1.1 薄膜作製の基礎
1.2 薄膜の評価方法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析法
1.2.3 光学的評価法
2. ALD技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
3. ALD技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスタへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
4. ALE技術の基礎
4.1 ALEの歴史
4.2 ALEの原理
5. ALE技術の応用事例
3.1 シリコン、 窒化ガリウム等半導体材料への応用
3.2 シリコン酸化膜、 窒化膜等絶縁膜への応用
3.3 Co等金属膜への応用
6. ALD/ALE技術の課題と展望
4）講師紹介
【講師略歴】
1985年3月 豊橋技術科学大学大学院 電気電子修士修了
1985年4月 松下電器産業（株） 半導体研究センター
1996年4月 松下電器産業（株） 液晶開発センター
1999年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 助教授
2009年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
【活 動】
1. 応用物理学会 フェロー
2. IEEE シニアメンバー
3. IEEE/AMFPD 国際学会実行委員長
4. JJAP/APEX 副編集委員長
5. CMC出版「低温ポリシリコントランジスタの開発」
6. Intelligent Nanosystems for Energy, Information and
BiologicalTechnologies（ISBN:978-4-431-56427-0 (Print) 978-4-431-56429-4
(Online)）
5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、 当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 推奨環境は当該ツールをご参照ください。 後日、
視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
・ 半導体プロセス・デバイス技術者・学生/教員・企業関係者・研究企画関係者
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/94320/
6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
〇 電磁ノイズ低減を実現するシールド技術の基礎と応用
開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/95638/
〇 プラスチックのリサイクル技術の基礎とその使い方
開催日時：2022年5月10日（火）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/94895/
〇 エポキシ樹脂全般の知識とフィルム化技術
開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/93728/
〇 電磁ノイズ低減を実現するシールド技術の基礎と応用
開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/95636/
〇 ゼオライトの触媒作用
開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/95162/
〇 二酸化炭素からの有用化学品合成
開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/93083/
〇 ウェットコーティング・単層、 重層塗布方式の基礎とダイ膜厚分布・特許・塗布故障
開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/95177/
〇 射出成形を事例にしたプラスチック加工の基礎と最新の加工技術
開催日時：2022年5月12日（木）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/93234/
〇 ゾル-ゲル法の実務活用のための速習セミナー
開催日時：2022年5月12日（木）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/93545/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上